第五百七十一章：光刻机区别
“没错，不够。”
周瑜清楚的知道，不论这个世界和前世是否走一个发展道路，是否会有s3大战，但大夏联邦的高速发展中，所有行业对于计算机算力的需求是暴涨式上涨的。
从需求性能越来越高的游戏，到语言类人工智能、新能源车的无人驾驶、远程医疗、ar/vr虚拟游戏这些从教科书、科幻小说电影落实到现实的科技项目产品，其成功的基础，除了有材料行业的迅猛发展，还有一个重点，就是芯片算力越来愈大。
甚至于，现在大夏联邦官方和阿美瑞克官方，都在暗搓搓的搞量子计算、碳基芯片孵化，只不过受限于技术，两者目前都还没有什么优秀成功。
当然，如果按照前世的发展，大夏联邦在这几个项目上一直坚持着投资，所以在几年后，甚至于十年后，将会成为世界前列……
而此时此刻，周某人之所以召集公司高福利养育的这群半导体工程师，想的就是选出几个代表性工具人，把这些技术，“拿出来”。
带领大夏联邦的半导体产业，进行跨越式升级，从还在研究三十纳米二十纳米，突破到个位数，十纳米！
另一边则是通过研发出来的高性能芯片，进行更大规模的计算机中心建设，搞出高性能的超算，来配合公司项目的研发和推进。
虽然目前新科半导体在大夏联邦已经是一鸣惊人，甚至在全球半导体领域都是大名鼎鼎，但这还不够。
周瑜不管台积电、韩星电子半导体这些企业搞他们的工艺纳米标准，也不管火龙与冰麒麟是不是还会有你争我斗，他要的是跨时代的技术领先。
虽然曾经的半导体部门已经独立出来，但独立是为了更好的管理，并且经过这些年的浴血奋战，新科半导体的工程师团队对周瑜，对大夏新科的忠诚度都已经来到了几近满值的程度。
在周瑜的规划中，只要芯片性能到了一定程度，就可以着手开始智能机器人的研发和制造，让这些智能机器人去落实、制造技术产品。
毕竟，人类的忠心，在某种程度上来说，是肯定比不过代码的。
在代码的世界，1就是1，0就是0.
只要能够把脑海中神秘晶体传授的知识吃透，周瑜相信，自家的智能机器人绝对比人能保密，也比普通人，会更加忠诚。
而且半导体芯片这个关键性的产品，也不可能一直依靠夏芯国际来进行代工制造，万一哪一天夏芯国际的管理层吃错药了，或者大夏官方搞什么幺蛾子。
自家公司没有足够多的高性能芯片，该怎么办？
所以，为了大夏新科的未来，为了大夏联邦半导体产业的未来，新科半导体公司的李贤审、杨刚省、李明伟、李毅风等人，在周瑜的带领下，开始了新一轮的半导体攻关之旅。
其实大夏联邦一直都不缺乏那种为了自主产业发展而努力的科研人员，只是受限于很多产业的市场环境与当时大夏联邦的经济条件，这部分科研人员并没有办法得到足够多的支持。
现在的全球半导体产业中，大夏联邦的科研人才份额占比虽然不多，但是行业人员总量却已经是最多的了，而且很多国外西方半导体公司机构的项目成功，其背后团队当中，也不乏有黄种人的身影。
比如阿美瑞克的半导体巨头——应用材料总公司，其公司副总裁就是华裔，目前蓝星的半导体刻蚀产业的技术主要推动者，也是黄种人。
而在周瑜的规划中，李贤审、杨刚省、李明伟等人，就是未来要上半导体行业教材的人。
至于他？
一个年纪不大的伯乐罢了。
什么都会，还可以说是博闻强记，努力学习的成果。
要是什么都精通，很可能过不了几年，周瑜就得担心自己的毛发、血液标本会不会被某些不法分子拿去做一些违法犯罪的事情。
李贤审、杨刚省、李明伟、李毅风等人在和周瑜交流之后，虽然心潮澎湃，甚至可以说是现在就想住在实验室里。
但在仔细探索和商量之后，却都发现了一个同样的问题——光源。
光刻机之所以会被行业内外人士称为“光刻机”，其实是一个很生动具体的称呼，它就是利用光的特殊原理，雕刻芯片的高精尖机器。
光，在这台机器上，就是手术刀，就是工兵最需要的利器。
李贤审目光凝重道：“据说，荷兰阿斯麦公司将要卖给台积电的euv光刻机所用的光源是极紫外光源，这个光源制造出来的euv光刻机，不仅可以轻松制造出台积电制程标准的10纳米芯片，或许，如果台积电的工程师足够激进的话，恐怕几年内，就可能将其推进到10纳米以下的高性能芯片。”
杨刚省也在一旁说道：“这件事情，我还算比较清楚，因为光刻胶在这两者的应用也不一样。
荷兰阿斯麦公司联合全球一众科学家、工程师，搞出来的这台euv光刻机，据说其使用的极深紫外线，其光源波长为13.5纳米。
而现在夏芯国际还在使用的duv光刻机，则是使用的深紫外线，其光源波长为193纳米。
euv光刻机的光源是通过激光激发等离子体来发射euv光子，而duv光刻机的光源为准分子激光。因为光源产生方式的不同，所以我们也要开发不同类型的专用光刻胶。
并且除此之外，我们的晶圆工艺也需要提升，否则芯片良品率会差许多。”
有这两位开口，其他人也是群策群力，提供着自己的情报。
“以前我听西工大的教授说起过，这两种光刻机的光路系统设计都非常不同。
euv光刻机利用的是光的反射原理，并且内部必须是真空操作，不能够有空气和杂物。而duv光刻机主要利用光的折射原理，透镜和晶圆之间可以采用不同的介质来改变光刻性能，我们大夏联邦已经有光刻机研发机构，快要突破duv光刻机的光源设备、透镜工艺了。”
“你说的是上沪市的那个上沪微电子？”